Акции IT-компаний
Apple - $203.86
Google - $1236.37
Facebook - $178.28
Amazon - $1861.69
Microsoft - $123.37
Yandex - $37.34
Netflix - $360.35
Действие так называемого «закона Мура» долгое время поддерживалось с использованием лазеров с длиной волны 193 нм, но переход на EUV-литографию обеспечил увеличение разрешающей способности литографического оборудования за счёт уменьшения длины волны лазера до 13,5 нм. Коэффициент преломления, тоже определяющий характеристики сканеров, при этом снизился с 1,35 до 0,35, ухудшив показатели. Как отмечает Seeking Alpha, компания ASML собиралась частично компенсировать это за счёт внедрения EUV-технологии с повышенным коэффициентом преломления (0,55).
Внедрить массовое производство полупроводниковых компонентов с использованием EUV-литографии второго поколения ASML планировала силами клиентов к 2023 году. Ещё в январе стало известно, что теперь сроки смещаются до 2025-2026 годов. Пока клиентам ASML придётся компенсировать задержку увеличением количества фотомасок, а это приведёт как к удорожанию продукции, так и к удлинению производственного цикла. Собственно говоря, первое поколение EUV-литографии тоже пришло на рынок с большой задержкой, так что участникам рынка не придётся привыкать. Даже когда новый вариант EUV будет внедрён в массовом производстве, предпосылок к снижению затрат он не принесёт – стоимость одного литографического сканера достигнет $300 млн. Окупать его приобретение придётся очень долго, и на себестоимости продукции это скажется очевидным образом.
Источник: https://overclockers.ru/hardnews/show/110904/ocherednaya-revoljuciya-v-euv-litografii-otkladyvaetsya-do-2025-goda